“电感耦合等离子体”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果5342629个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种火抛光辅助电感耦合等离子体加工方法-CN201510389611.4有效
发明人：王波;苏星;张鹏;辛强;王骏 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2015-07-06 - 公布日： 2015-09-30 - 主分类号： G02B1/10 文献下载
摘要：一种火抛光辅助电感耦合等离子体加工方法，它属于精密光学零件加工的技术领域。它的步骤一：启动加工电感耦合等离子体炬和火抛光电感耦合等离子体炬；步骤二：使火抛光电感耦合等离子体炬的火抛光电感耦合等离子体炬作用区位于加工电感耦合等离子体炬的加工电感耦合等离子体炬作用区运动方向前侧；步骤三：被加工件的上表面被加工件吸热，微裂纹发生融化修复作用；然后加工电感耦合等离子体炬对火抛光电感耦合等离子体炬作用区进行去除加工。本发明在对光学镜片加工时，使用火抛光电感耦合等离子体炬预处理，不会产生波纹度误差条件下部分修复微裂纹，进而使用大气等离子体加工，避免了等离子体加工损伤打开的效果，实现了高质量的光学加工。
一种抛光辅助电感耦合等离子体加工方法

[发明专利]一种火抛光辅助电感耦合等离子体加工装置-CN201510389614.8有效
发明人：王波;苏星;张鹏;李娜;王骏 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2015-07-06 - 公布日： 2017-03-15 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种火抛光辅助电感耦合等离子体加工装置，本发明属于精密光学零件加工的技术领域。它的加工电感耦合等离子体炬和火抛光电感耦合等离子体炬都安装在双炬连接组件上；加工电感耦合等离子体炬通入的工作气体为含氟气体，具有去除效果；火抛光电感耦合等离子体炬通入的气体为不含氟气体，无去除效果；使火抛光电感耦合等离子体炬的火抛光电感耦合等离子体炬作用区位于加工电感耦合等离子体炬的加工电感耦合等离子体炬作用区运动方向前侧本发明在对光学镜片加工时，使用火抛光电感耦合等离子体炬预处理，不会产生波纹度误差，部分修复微裂纹，进而使用大气等离子体加工，避免了等离子体加工损伤打开的效果，实现了高质量的光学加工。
一种抛光辅助电感耦合等离子体加工装置

[发明专利]一种共享电感耦合等离子体光源的光谱与质谱测定装置与方法-CN201610984073.8在审
发明人：龚革联;游利兵;李聪隐;方晓东;孙卫东;徐成;徐红云 -专利权人：中国科学院广州地球化学研究所
申请日： 2016-11-09 - 公布日： 2017-02-22 - 主分类号： G01N21/73 文献下载
摘要：本发明公开了一种共享电感耦合等离子体光源的光谱与质谱测定装置和方法。沿电感耦合等离子体发生装置产生的电感耦合等离子体轴向设有接收电感耦合等离子体的质谱仪，沿电感耦合等离子体发生装置产生的电感耦合等离子体径向设有接收电感耦合等离子体的光纤探头，光纤探头与光纤的一端相连，光纤的另外一端与光栅光谱仪相连由于本发明的光栅光谱仪与等离子质谱仪共享同一个ICP光源，在提高元素测量精度的同时，也减少了成本消耗。本发明的共享电感耦合等离子体光源的光谱与质谱测定装置还具有结构紧凑、便于模块化组装等特点。
一种共享电感耦合等离子体光源光谱测定装置方法

[发明专利]结合有多重磁芯的电感耦合等离子体反应器-CN200710086254.X无效
发明人：崔大圭 -专利权人：新动力等离子体株式会社
申请日： 2007-03-09 - 公布日： 2007-10-31 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种结合有多重磁芯的电感耦合等离子体反应器，与等离子体耦合的电感耦合能量的传递效率高，可以稳定地维持等离子体，可以稳定地得到高密度的等离子体。本发明的电感耦合等离子体反应器结合有变压器，变压器具有用于向反应器主体的等离子体放电室传递等离子体放电的电动势的多重磁芯、和初级线圈。位于等离子体放电室内部的磁芯部分，由芯保护管整体覆盖而受保护。在电感耦合等离子体反应器中，多个磁芯横截部分位于等离子体放电室的内部，与等离子体耦合的电感耦合能量的传递效率很高。
结合多重电感耦合等离子体反应器

[发明专利]电感耦合等离子体装置及半导体薄膜设备-CN202210002453.2有效
发明人：余先炜;田才忠;林保璋 -专利权人：盛吉盛（宁波）半导体科技有限公司
申请日： 2022-01-05 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种电感耦合等离子体装置及半导体薄膜设备，该电感耦合等离子体装置包括：等离子体装置本体和隔离盖板，隔离盖板盖设于等离子体装置本体上；隔离盖板包括：隔离盖板本体；凸起结构，设置于隔离盖板本体朝向电感耦合等离子体装置腔室内的内侧面上本发明通过在电感耦合等离子体装置的隔离盖板朝向腔室内侧的一面增加凸起结构，在不改变电感耦合等离子体装置的天线等装置的情况下，改变电感耦合等离子体装置腔室内的电场强度分布，进而通过磁场强度分布的调整来使得腔室内的等离子体径向分布的均匀性
电感耦合等离子体装置半导体薄膜设备

[发明专利]电感耦合等离子体激发用天线及组件和等离子体处理装置-CN202210121035.5在审
发明人：齐藤武尚;山泽阳平;中岛俊希;仓科大辅;藤原直树 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-02-09 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种电感耦合等离子体激发用天线、电感耦合等离子体激发用天线组件和等离子体处理装置。该电感耦合等离子体激发用天线包括：多个线圈单元；和导电性板，其与所述多个线圈单元连接，具有中央开口部和至少一个板端子。根据本发明，在使用电感耦合等离子体激发用天线激发等离子体时，提高该天线的磁场生成效率，并且提高磁场强度的周向均匀性。
电感耦合等离子体激发天线组件处理装置

[发明专利]介质窗、电感耦合线圈组件及等离子体处理设备-CN201010622209.3无效
发明人：刑涛 -专利权人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
申请日： 2010-12-27 - 公布日： 2012-07-04 - 主分类号： H05H1/46 文献下载
摘要：本发明提供一种介质窗、电感耦合线圈组件及等离子体处理设备。其中，本发明提供的介质窗用于在等离子体处理设备中安装电感耦合线圈，该介质窗的上表面具有与上述电感耦合线圈的形状相适配的装卡部，借助该装卡部可将电感耦合线圈精确地固定于介质窗的上表面，从而有利于在等离子体工艺腔室内获得均匀分布的等离子体本发明提供的电感耦合线圈组件及等离子体处理设备同样能够对电感耦合线圈进行精确地安装定位，从而在工艺腔室内获得均匀分布的等离子体。
介质电感耦合线圈组件等离子体处理设备

[发明专利]用于电感等离子体源的改进的静电屏蔽件-CN202080003225.6在审
发明人： S·E·萨瓦;陈贞安;马绍铭 -专利权人：玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技有限公司
申请日： 2020-01-09 - 公布日： 2021-01-26 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本公开提供了用于电感等离子体源的静电屏蔽件。在一种实施方式中，等离子体处理装置可以包括等离子体室、形成等离子体室的至少一部分的电介质壁和位于电介质壁附近的电感耦合元件。在用射频(RF)能量激励该电感耦合元件时，该电感耦合元件可以在该等离子体室中产生等离子体。该等离子处理装置可以进一步包括位于该电感耦合元件与该电介质壁之间的静电屏蔽件。
用于电感等离子体改进静电屏蔽

[发明专利]用于电感耦合等离子体源的内部分离法拉第屏蔽-CN201210396411.8有效
发明人： T.米勒;S.张 -专利权人： FEI公司
申请日： 2012-10-18 - 公布日： 2013-05-15 - 主分类号： H01J27/02 文献下载
摘要：本发明涉及用于聚焦射束系统的电感耦合等离子体离子源。一种用于聚焦带电粒子束系统的电感耦合等离子体源包括等离子体室内的导电屏蔽以便减少到等离子体的电容耦合。内部导电屏蔽被偏置电极或被等离子体被保持在与等离子体源基本上相同的电位。内部屏蔽允许等离子体室的外部上的更多种冷却方法。
用于电感耦合等离子体内部分离法拉第屏蔽

[发明专利]电感耦合等离子体激发用天线、电感耦合等离子体激发用天线单元和等离子体处理装置-CN202310393509.6在审
发明人：山泽阳平 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2023-04-13 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： H01Q1/50 文献下载
摘要：本发明提供电感耦合等离子体激发用天线、电感耦合等离子体激发用天线单元和等离子体处理装置，在使用电感耦合等离子体激发用天线激发等离子体时，提高该利用天线的磁场的生成效率，并且提高磁场强度的周向均匀性。电感耦合等离子体激发用天线包括：导电性板；一端与上述导电性板连接的多个线圈组件；和阻抗调整部，其针对上述多个线圈组件的每一者，设置在上述多个线圈组件的另一端与接地之间。
电感耦合等离子体激发天线单元处理装置

[发明专利]电感耦合等离子体发生装置和电感耦合等离子体分析装置-CN201610135085.3有效
发明人：中川良知;一宫丰 -专利权人：日本株式会社日立高新技术科学
申请日： 2016-03-10 - 公布日： 2019-12-10 - 主分类号： H05H1/28 文献下载
摘要：本发明涉及电感耦合等离子体发生装置和电感耦合等离子体分析装置。提供能够不使用冷却水而以高的冷却能力冷却高频感应线圈的电感耦合等离子体发生装置和使用其的电感耦合等离子体分析。电感耦合等离子体发生装置（10）由等离子体焰炬（13）、高频感应线圈（14）和高频电源（16）概略构成。此外，在电感耦合等离子体发生装置（10）设置有第一端（18a）连接于高频感应线圈（14）而第二端（18b）连接于冷却块（17）的传热构件（18）。
电感耦合等离子体发生装置分析

[实用新型]一种电感耦合等离子体发射光谱仪-CN201821341252.0有效
发明人：胡亮;杜希纯;尹海波;刘泓昱;周婷;关鹏翔;王亮;樊婕;范明珠 -专利权人：江西树林检测有限公司
申请日： 2018-08-20 - 公布日： 2019-04-02 - 主分类号： G01N21/73 文献下载
摘要：本实用新型提供一种电感耦合等离子体发射光谱仪，涉及电感耦合等离子体发射光谱仪技术领域。该电感耦合等离子体发射光谱仪，包括电感耦合等离子体发射光谱仪本体，所述电感耦合等离子体发射光谱仪本体的上端固定安装有一号排气管。该电感耦合等离子体发射光谱仪，通过一号环形限位固定块的上端开设有与一号环形定位块相匹配的一号环形槽，二号排气管的内部开设有与二号环形定位块相匹配的二号环形槽，使二号排气管与一号排气管进行完美对齐安装，提高了安装效率和二号排气管与一号排气管的密封性能，从而提高了电感耦合等离子体发射光谱仪排气装置的使用寿命。
电感耦合等离子体发射光谱仪排气管环形定位块环形槽匹配本实用新型安装效率环形限位密封性能排气装置上端固定使用寿命对齐固定块上端

[发明专利]电感等离子体涂敷器-CN201080023168.4无效
发明人：塞巴斯蒂恩·迪内 -专利权人：法国高等理工学院;国家科学研究中心
申请日： 2010-03-18 - 公布日： 2012-05-02 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种电感等离子体涂敷器包括铁磁电感耦合源(3，4)以及具有关于等离子体源对中的孔样式的电极(6)。这种等离子体涂敷器提供有效能量传输至等离子体。该等离子体涂敷器优选地使用用于制造电路的技术制造。该电极(6)和该铁磁电感耦合等离子体源的线圈(3)是形成在绝缘基底上的金属轨道部分。例如，使用印刷电路板技术来制造等离子体涂敷器。
电感等离子体涂敷器

[实用新型]电感耦合线圈及其电感耦合等离子体装置-CN200420072904.7无效
发明人：陈鹏 -专利权人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
申请日： 2004-06-29 - 公布日： 2005-09-14 - 主分类号： H01F5/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种电感耦合线圈及其电感耦合等离子体装置。所述的电感耦合线圈结构由两个或两个以上直径不同的多匝数线圈组成；各个多匝数线圈互相连接组成一个三维绕组线圈。所述的装置为设置有所述的电感耦合线圈的等离子体装置。本实用新型提供的电感耦合线圈可以产生较为均匀的电磁场，从而保证了基于该线圈设计的电感耦合等离子体装置可以产生均匀的等离子体，该装置在0.1mTorr－1Torr的气体压力的条件下均可以产生均匀的等离子体因此，在半导体制造工艺如果采用本实用新型所述的电感耦合等离子体装置，则可以很好地满足半导体制造过程中的各向异性、等向性刻蚀及化学气相沉积等工艺要求。
电感耦合线圈及其等离子体装置

[发明专利]一种基于电感耦合等离子体与离子束耦合的光学加工装置-CN201910754594.8有效
发明人：王旭;唐瓦;尹小林;宋驰;薛栋林;张学军 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2019-08-15 - 公布日： 2020-08-07 - 主分类号： H01J37/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于电感耦合等离子体与离子束耦合的光学加工装置，电感耦合等离子体发生器和离子束发生器同时工作，电感耦合等离子体发生器出射的等离子体与离子束发生器出射的离子束均入射到待加工光学材料表面形成作用区在等离子体和离子束的共同作用下，能够获得较高的光学材料去除率及优良的表面粗糙度及下表面破坏层。
一种基于电感耦合等离子体离子束光学加工装置

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
下一页»
尾页
共 100000 条